तरल क्रिस्टल के लिए एल्यूमिना adsorbent

तरल क्रिस्टल अणुओं की तैयारी के दौरान अशुद्धियों का सोखना, धातु आयनों की मात्रा का पता लगाते हैं (जैसे कि Na⁺, Fe,), कार्बनिक अशुद्धियां या नमी रह सकती हैं। ये पदार्थ तरल क्रिस्टल (जैसे प्रतिक्रिया गति और कंट्रास्ट) के फोटोइलेक्ट्रिक प्रदर्शन को प्रभावित कर सकते हैं।

सक्रिय एल्यूमिना की झरझरा संरचना कुशलता से उपरोक्त - का उल्लेख कर सकती है, विशेष रूप से धातु आयनों की एकाग्रता को कम करने के लिए चुनिंदा रूप से सोखने के द्वारा, तरल क्रिस्टल सामग्री की शुद्धता को सुनिश्चित करने और चित्र की गुणवत्ता और प्रदर्शन पैनलों की स्थिरता को बढ़ाने के लिए।

प्रक्रिया गैस सुखाने: तरल क्रिस्टल पैनलों का उत्पादन अत्यधिक स्वच्छ वातावरण में किया जाना चाहिए। सक्रिय एल्यूमिना का उपयोग सुरक्षा गैसों जैसे नाइट्रोजन और आर्गन को सूखी करने के लिए किया जाता है ताकि पानी के वाष्प संक्षेपण को फिल्म के जमाव (जैसे कि टीएफटी सरणी निर्माण) या तरल क्रिस्टल इंजेक्शन सटीकता को प्रभावित करने से रोका जा सके।

अम्लीय गैस हटाने: कुछ प्रक्रियाएं (जैसे प्लाज्मा नक़्क़ाशी) अम्लीय गैसों (जैसे एचएफ, सीओओ) की मात्रा का उत्पादन कर सकती हैं। सक्रिय एल्यूमिना उपकरण संक्षारण या पैनल संदूषण को रोकने के लिए इन गैसों को सोख सकता है।

लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले के एक प्रमुख घटक के रूप में, पोलराइज़र को उत्पादन प्रक्रिया के दौरान सॉल्वैंट्स (जैसे मेथनॉल और एसीटोन) की शुद्धता को नियंत्रित करने की आवश्यकता होती है। सक्रिय एल्यूमिना का उपयोग विलायक में adsorb ट्रेस अशुद्धियों के लिए किया जा सकता है, जिससे पोलराइज़र के ऑप्टिकल प्रदर्शन को सुनिश्चित किया जा सकता है।

उच्च शुद्धता मानक: तरल क्रिस्टल क्षेत्र में उपयोग किए जाने वाले सक्रिय एल्यूमिना को आयन संदूषण को प्रभावित करने वाले आयन संदूषण से बचने के लिए सोडियम और लोहे (आमतौर पर <50ppm) जैसी अशुद्धियों की सामग्री को सख्ती से नियंत्रित करना चाहिए।

कण आकार और छिद्र आकार नियंत्रण: कण आकार (जैसे कि 1-3 मिमी गोलाकार कणों) और ताकना आकार वितरण के आधार पर अनुप्रयोग परिदृश्य, संतुलन सोखना दक्षता और द्रव प्रतिरोध के आधार पर, और उत्पादन रेखा के निरंतर निस्पंदन या परिसंचरण प्रणाली के अनुकूलन करें।